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机械研磨法制备晶体密度钼膜技术研究_图文_百度文库
的研究目的在于采用机械研磨抛光技术制备厚度小于 100 μ m , 表面质量与厚度一致性好的 Mo 膜 。 1 实验部分 1 . 1 实验材料及仪器 Mo 膜 , 西北有色金属研究所制备 , 厚度 …

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机械研磨法制备晶体密度钼膜技术研究[J – 豆丁网
阅读文档 上传时间:2011年3月21日 机械,技术,研究,j,晶体,研磨,密度,制备,技术研究,法制备 . JUN. ,2005文章编号: 100124322 (2005) 0620879204机械研磨法制备晶体密度钼膜技术研究3杜凯,郑凤成,谢军 . NM ,面…

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